Obiektyw FUJINON XF56mmF1.2 R APD oferuje znakomity poziom ostrości, nawet przy użyciu przysłony F1.2. W dodatku filtr apodyzacyjny wygładza krawędzie rozmyć. Połączenie ostrości obrazu i pięknego efektu bokeh sprawia, że portrety zyskują wrażenie trójwymiarowości.
Konstrukcja optyczna opiera się na 11 szklanych soczewkach umieszczonych w 8 grupach, w tym 1 soczewce asferycznej formowanej ze szkła i 2 soczewkach o bardzo niskiej dyspersji (ED). Aberracje sferyczne korygowane są za pomocą soczewki asferycznej, która zapewnia wysoką rozdzielczość optyczną przy maksymalnie otwartej przysłonie. Dodatkowo, dzięki zastosowaniu dwóch soczewek ED i trzech soczewek klejonych, udało się w znacznym stopniu wytłumić aberrację chromatyczną.
Dzięki zastosowaniu opracowanych przez Fujifilm unikalnych powłok HT-EBC (High Transmittance Electron Beam Coating) na powierzchniach wszystkich soczewek obiektywu, degradujące jakość obrazu zjawiska duszków (ghostingu) i flary są dobrze kontrolowane, co zapewnia ostre i wyraziste rezultaty.
Obiektyw pozwala również w pełni wykorzystać zalety konstrukcji wyjątkowych matryc Fujifilm X-Trans™*1 CMOS, pozbawionych filtru dolnoprzepustowego, co przekłada się na niezwykle wysoką jakość obrazowania. Ghosting i flara pozostają pod kontrolą nawet w ciężkich warunkach, takich jak fotografowanie pod światło.
Zapięcie tego obiektywu do korpusu aparatu serii X*2 wyposażonego w technologię Optymizatora modulacji obiektywu*3 w jeszcze większym stopniu poprawia wydajność optyki. Optymizator modulacji obiektywu koryguje błędy wywołane dyfrakcją*4 i pozwala uzyskiwać kadry ostre od krawędzi do krawędzi i tworzy realistyczny efekt trójwymiarowej głębi, nawet przy mocno domkniętej przysłonie.