Het FUJINON OBJECTIEF XF56mmF1.2 R APD biedt schitterende scherpteniveaus, zelfs bij opnamen met een diafragma van F1.2. Bovendien verzacht het apodisatiefilter de contouren van de bokeh. Deze combinatie van beeldscherpte en prachtige bokeh levert portretten met een driedimensionaal gevoel op.
Er is gebruik gemaakt van een optische constructie van 11 glaselementen in 8 groepen, waaronder een asferisch glazen gegoten lenselement en twee extra lage dispersie lenselementen. Sferische aberraties worden gecorrigeerd door het asferische glaselement om een hoge resolutie te leveren bij de maximale diafragma-instelling. Bovendien worden chromatische aberraties aanzienlijk verminderd dankzij de combinatie van twee lenselementen met extra lage dispersie en drie gecementeerde lenselementen.
Door Fujifilm’s unieke HT-EBC (High Transmittance Electron Beam Coating) toe te passen op alle lensoppervlakken, worden ghosting en flare onder controle gehouden voor scherpe, heldere resultaten.
Het objectief maakt ook optimaal gebruik van Fujifilm’s unieke X-Trans™*1 CMOS low pass filterloze sensor voor een extreem hoge beeldkwaliteit. Ghosting en flare worden zelfs onder zware omstandigheden, zoals tegenlicht, gecontroleerd.
Door dit objectief te combineren met een X Serie camerabody*2 met Lens Modulation Optimizer*3 (LMO)-technologie, worden de prestaties van het objectief nog verder verbeterd. LMO corrigeert diffractie*4 om beelden te produceren met scherpte van rand tot rand en een realistisch driedimensionaal effect te creëren, zelfs bij kleine diafragma’s.