El objetivo FUJINON XF56mmF1.2 R APD ofrece niveles brillantes de nitidez incluso cuando se dispara con la apertura en F1.2. Además, el filtro de apodización suaviza los contornos del bokeh. Esta combinación de nitidez de imagen y hermoso bokeh ofrece retratos con una sensación tridimensional.
Se ha utilizado una construcción óptica de 11 elementos de vidrio en 8 grupos, incluyendo un elemento de lente asférica de vidrio moldeado y dos elementos de lente de dispersión extra baja. Las aberraciones esféricas son corregidas por el elemento de cristal asférico para ofrecer una alta resolución en el ajuste de apertura máxima. Además, gracias a la combinación de dos elementos de lente de dispersión extrabaja y tres elementos de lente cementados, las aberraciones cromáticas se reducen considerablemente.
Al aplicar el exclusivo revestimiento HT-EBC (High Transmittance Electron Beam Coating) de Fujifilm a todas las superficies del objetivo, se controlan las imágenes fantasma y los destellos para obtener resultados nítidos y claros.
El objetivo también aprovecha al máximo el exclusivo sensor sin filtro de paso bajo X-Trans™*1 CMOS de Fujifilm para obtener una calidad de imagen extremadamente alta. Las imágenes fantasma y los destellos se controlan incluso en condiciones adversas, como el contraluz.
Al combinar este objetivo con un cuerpo de cámara de la Serie X*2 con tecnología Lens Modulation Optimizer*3 (LMO), el rendimiento del objetivo se mejora aún más. El LMO corrige la difracción*4 para producir imágenes con una nitidez de borde a borde y crear un efecto tridimensional realista, incluso con aperturas pequeñas.